微(wei)納3D打印(yin)系統(tong)是(shi)壹(yi)種能(neng)夠在微(wei)米乃(nai)至(zhi)納米尺(chi)度(du)上實現高精度(du)三(san)維(wei)結(jie)構(gou)制(zhi)造(zao)的(de)先進(jin)增材制(zhi)造(zao)設(she)備(bei),廣泛(fan)應用(yong)於(yu)微(wei)電子(zi)、光子(zi)學、生(sheng)物(wu)醫(yi)學、微(wei)機電系統(tong)(MEMS)、超材料及納米器(qi)件等前(qian)沿科(ke)研與(yu)高d制(zhi)造(zao)領(ling)域(yu)。該系統(tong)突破(po)了傳(chuan)統(tong)加(jia)工技術在復雜(za)結構(gou)、小尺(chi)寸(cun)和(he)材料多(duo)樣性(xing)方(fang)面的限制(zhi),實現了“自(zi)下而上”的(de)精密制(zhi)造(zao)。
其(qi)通(tong)常由高穩定性(xing)光(guang)學平(ping)臺(tai)、精密運動控(kong)制(zhi)系統(tong)(如(ru)壓電陶瓷位移臺(tai))、激光光源、實時成像監(jian)控(kong)模(mo)塊及專(zhuan)用(yong)控(kong)制(zhi)軟(ruan)件組成。用(yong)戶(hu)可通(tong)過(guo)CAD模(mo)型(xing)導入,經(jing)切(qie)片(pian)處(chu)理(li)後驅(qu)動系統(tong)逐(zhu)點或(huo)逐(zhu)層(ceng)構(gou)建復雜(za)三維(wei)微(wei)結(jie)構(gou),如微(wei)透(tou)鏡(jing)陣(zhen)列(lie)、仿生(sheng)支(zhi)架(jia)、微(wei)流(liu)控(kong)芯(xin)片、光(guang)子(zi)晶體和(he)微(wei)型(xing)機器(qi)人(ren)等(deng)。
微(wei)納3D打印(yin)系統(tong)的(de)組(zu)成部分(fen):
壹(yi)、光學系統(tong):光(guang)聚(ju)合反應的“雕刻(ke)刀”
光學系統(tong)是(shi)微(wei)納3D打印(yin)的核(he)心(xin),通(tong)過(guo)高精度(du)光(guang)束(shu)控(kong)制(zhi)實現材料固(gu)化或(huo)沈(chen)積(ji):
光(guang)源類型(xing):
激光(guang)光(guang)源:如飛(fei)秒激光(guang)(用(yong)於(yu)雙(shuang)光(guang)子(zi)聚(ju)合技術),通過(guo)超短(duan)脈(mai)沖(chong)激(ji)發材料雙(shuang)光(guang)子(zi)吸收(shou),實現納米級(ji)精度(du)(如(ru)Nanoscribe系統(tong)可打印(yin)200nm特征尺寸(cun))。
LED光(guang)源:如摩(mo)方(fang)精密的(de)UV-LED(405nm),配(pei)合面投影微(wei)立(li)體光刻(ke)(PμSL)技術,通過(guo)動態(tai)掩模(mo)壹(yi)次性(xing)曝(pu)光固(gu)化樹(shu)脂(zhi),兼(jian)顧(gu)精度(du)(10μm)與(yu)效率(如nanoArch®S140支(zhi)持94mm×52mm×45mm最(zui)大成型尺(chi)寸)。
光(guang)路(lu)設(she)計:
激(ji)光(guang)直寫(xie)型:通(tong)過(guo)振鏡(jing)或(huo)位移臺(tai)控(kong)制(zhi)激(ji)光(guang)束(shu)掃(sao)描路(lu)徑(jing),實現逐(zhu)點固(gu)化(如(ru)雙(shuang)光(guang)子(zi)聚(ju)合技術)。
面投(tou)影曝光(guang)型:采用(yong)數(shu)字掩膜生成系統(tong)(如(ru)DMD芯(xin)片),將(jiang)三維(wei)模(mo)型(xing)分(fen)解(jie)為二維切(qie)片(pian),通(tong)過(guo)投影光束(shu)壹(yi)次性(xing)固(gu)化整(zheng)層材料(如摩(mo)方(fang)精密的(de)PμSL技術)。
聚(ju)焦與(yu)縮束(shu):
結合顯微(wei)成像光(guang)學系統(tong)(如(ru)物(wu)鏡(jing)、透(tou)鏡(jing)組(zu)),將(jiang)光(guang)束聚(ju)焦至(zhi)微(wei)納尺度,控(kong)制(zhi)光(guang)聚(ju)合反應區(qu)域(yu)(如雙(shuang)光(guang)子(zi)聚(ju)合技術中,焦點直(zhi)徑(jing)可降(jiang)至(zhi)100nm以(yi)下)。
二、運動控(kong)制(zhi)系統(tong):三(san)維(wei)空間的“導航(hang)儀(yi)”
運動控(kong)制(zhi)系統(tong)通(tong)過(guo)高精度(du)導軌(gui)與(yu)電機,實現打印(yin)頭或(huo)平臺(tai)的三維移(yi)動:
導軌(gui)類型(xing):
線性(xing)導軌(gui):提供X、Y、Z三軸直(zhi)線運動,確保(bao)打印(yin)頭或(huo)平臺(tai)在微(wei)米級(ji)精度(du)下(xia)移(yi)動(如(ru)摩(mo)方精密的(de)nanoArch®S130定位精度(du)達1μm)。
壓電陶瓷驅(qu)動:用(yong)於(yu)納米級(ji)位(wei)移控(kong)制(zhi)(如(ru)CERES微(wei)納金屬3D打印(yin)系統(tong)通(tong)過(guo)壓電陶瓷驅(qu)動AFM探針(zhen),實現亞微(wei)米級(ji)金(jin)屬結(jie)構(gou)打印(yin))。
電機控(kong)制(zhi):
采用(yong)閉(bi)環伺服電機或(huo)步進(jin)電機,結合編碼(ma)器(qi)反(fan)饋(kui),實現高精度(du)位(wei)置控(kong)制(zhi)(如(ru)打印(yin)層厚(hou)可低至(zhi)5μm)。
同步(bu)協(xie)調(tiao):
光(guang)學系統(tong)與(yu)運動系統(tong)同(tong)步(bu)工作(zuo),確保(bao)光束(shu)掃(sao)描路(lu)徑(jing)與(yu)材料固(gu)化位(wei)置精準匹(pi)配(pei)(如(ru)雙(shuang)光(guang)子(zi)聚(ju)合技術中,激(ji)光(guang)焦點需(xu)與(yu)打印(yin)頭移(yi)動路(lu)徑(jing)嚴(yan)格(ge)同步(bu))。
三(san)、材料供給系統(tong):微(wei)納結構(gou)的“建造師(shi)”
材料供給系統(tong)根(gen)據(ju)打印(yin)技術需(xu)求,提供光敏樹(shu)脂(zhi)、金(jin)屬(shu)、陶瓷等材料,並(bing)控(kong)制(zhi)其(qi)流(liu)動與(yu)固(gu)化:
材料類型(xing):
光敏樹(shu)脂(zhi):用(yong)於(yu)光固(gu)化技術(如PμSL、雙(shuang)光(guang)子(zi)聚(ju)合),需(xu)具備(bei)高透(tou)明性(xing)、低收(shou)縮率(如摩方精密的(de)生物(wu)兼(jian)容(rong)性(xing)樹(shu)脂(zhi))。
金(jin)屬(shu)材料:用(yong)於(yu)電化學沈(chen)積(ji)或(huo)激光燒(shao)結(如(ru)CERES系統(tong)支(zhi)持Cu、Ag、Pt等(deng)30余種(zhong)金屬材料)。
陶瓷材料:通過(guo)高溫(wen)燒(shao)結實現高強度結構(gou)(如普(pu)利生三維科(ke)技用(yong)微(wei)納3D打印(yin)陶瓷零件,經(jing)1700℃燒(shao)結後(hou)用(yong)於(yu)醫(yi)療器(qi)械(xie))。
供給方(fang)式(shi):
液態(tai)供給:通(tong)過(guo)泵或(huo)壓力控(kong)制(zhi)系統(tong)輸(shu)送(song)光敏樹(shu)脂(zhi)或(huo)金屬鹽(yan)溶(rong)液(如CERES系統(tong)通(tong)過(guo)微(wei)流(liu)控(kong)技術分配(pei)金(jin)屬(shu)離(li)子(zi)溶(rong)液)。
粉末供給:用(yong)於(yu)選擇(ze)性(xing)激(ji)光燒(shao)結(SLS)或(huo)3D噴(pen)印(yin)(3DP),需(xu)配(pei)合粘結劑或(huo)激光熔融(rong)(如(ru)SLS技術使(shi)用(yong)尼(ni)龍粉末(mo))。
固(gu)化控(kong)制(zhi):
光(guang)固(gu)化:通(tong)過(guo)紫(zi)外光或(huo)激光引(yin)發聚(ju)合反應(如PμSL技術中,UV-LED照(zhao)射(she)樹(shu)脂(zhi)使(shi)其固(gu)化)。
熱(re)固(gu)化:通(tong)過(guo)加熱(re)平(ping)臺(tai)或(huo)紅外光實現材料固(gu)化(如(ru)部分FDM技術使(shi)用(yong)熱(re)塑性(xing)高分(fen)子(zi)材料)。
電化學沈(chen)積(ji):通(tong)過(guo)電解(jie)反(fan)應將金(jin)屬(shu)離(li)子(zi)還原(yuan)為金屬(shu)(如CERES系統(tong)利用(yong)電化學方(fang)法打印(yin)亞微(wei)米級(ji)金(jin)屬結(jie)構(gou))。
四(si)、環境(jing)控(kong)制(zhi)系統(tong):微(wei)納制(zhi)造(zao)的(de)“穩定器(qi)”
環(huan)境(jing)控(kong)制(zhi)系統(tong)通(tong)過(guo)溫度(du)、濕(shi)度、振(zhen)動等(deng)參(can)數控(kong)制(zhi),確保(bao)打印(yin)過(guo)程穩定性(xing):
溫(wen)度控(kong)制(zhi):
恒(heng)溫(wen)腔體:維持(chi)打印(yin)環境(jing)溫(wen)度(du)穩定(如光(guang)敏樹(shu)脂(zhi)打印(yin)需(xu)避免溫度(du)波動導致收(shou)縮率變(bian)化)。
局(ju)部(bu)加熱(re):對(dui)特(te)定區(qu)域(yu)加熱(re)以(yi)促(cu)進(jin)材料固(gu)化或(huo)熔融(rong)(如(ru)FDM技術中,噴(pen)嘴加熱熔化(hua)熱(re)塑性(xing)材料)。
濕(shi)度控(kong)制(zhi):
防(fang)止(zhi)材料吸濕(shi)導致性(xing)能(neng)變(bian)化(如(ru)陶瓷材料需(xu)在幹燥(zao)環境中打印(yin)以(yi)避免開裂(lie))。
振(zhen)動隔(ge)離(li):
采用(yong)氣(qi)浮隔振(zhen)臺(tai)或(huo)主(zhu)動減(jian)振(zhen)系統(tong),減(jian)少外部振動對(dui)打印(yin)精度(du)的(de)影響(如(ru)雙(shuang)光(guang)子(zi)聚(ju)合技術需(xu)亞微(wei)米級(ji)振(zhen)動隔(ge)離(li))。
潔(jie)凈(jing)度控(kong)制(zhi):
在(zai)超凈間(jian)環境(jing)中(zhong)操(cao)作(zuo),防止(zhi)灰(hui)塵(chen)汙(wu)染(ran)微(wei)納結構(gou)(如半(ban)導體器(qi)件制(zhi)造(zao)需(xu)Class 100級潔(jie)凈(jing)度)。
五、軟(ruan)件系統(tong):微(wei)納設(she)計的(de)“智(zhi)能(neng)大腦”
軟(ruan)件系統(tong)實現三(san)維模(mo)型(xing)處(chu)理(li)、打印(yin)路(lu)徑(jing)規(gui)劃與(yu)過(guo)程監(jian)控(kong):
建模(mo)軟(ruan)件:
支(zhi)持CAD、STL等(deng)格(ge)式導入,並(bing)進(jin)行(xing)切(qie)片(pian)處(chu)理(li)(如將(jiang)三維模(mo)型(xing)分(fen)解(jie)為二維切(qie)片(pian),每(mei)層厚(hou)度可低至(zhi)5μm)。
路(lu)徑(jing)規(gui)劃算(suan)法:
優化(hua)打印(yin)路(lu)徑(jing)以(yi)減少支(zhi)撐結構(gou)、提高效(xiao)率(如摩方精密的(de)智(zhi)能(neng)切(qie)片(pian)算(suan)法可自(zi)動生(sheng)成優打印(yin)參數(shu))。
過(guo)程監(jian)控(kong)與(yu)反饋(kui):
實時監(jian)測打印(yin)狀態(tai)(如光(guang)固(gu)化進(jin)度(du)、材料供給量(liang)),並(bing)通過(guo)傳感(gan)器(qi)反(fan)饋(kui)調(tiao)整(zheng)參數(如CERES系統(tong)通(tong)過(guo)位移(yi)臺(tai)和(he)針(zhen)尖(jian)移(yi)動控(kong)制(zhi)3D結(jie)構(gou)精度(du))。
後(hou)處(chu)理(li)支(zhi)持:
提供支(zhi)撐結構(gou)去除、表(biao)面拋光(guang)等(deng)後處(chu)理(li)工藝指(zhi)導(如微(wei)流(liu)控(kong)芯(xin)片打印(yin)後需(xu)通過(guo)塗層(ceng)處(chu)理(li)形(xing)成親水(shui)表面(mian))。