產(chan)品中(zhong)心

當(dang)前(qian)位(wei)置：首(shou)頁產(chan)品中(zhong)心 3D打(da)印(yin)微納(na)3D打(da)印(yin)10微米高(gao)精(jing)度微納(na)3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)

10微米高(gao)精(jing)度微納(na)3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)

產(chan)品簡介

10微米高(gao)精(jing)度微納(na)3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)是(shi)科研(yan)級和工業(ye)級(ji)3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)，擁有(you)10μm的超(chao)高(gao)打(da)印(yin)精(jing)度和10μm的超(chao)低(di)打(da)印(yin)層(ceng)厚，從(cong)而(er)實現超(chao)高(gao)精(jing)度的(de)樣(yang)件制(zhi)作，非常適(shi)合(he)高(gao)校和研(yan)究(jiu)機構用(yong)於科學(xue)研(yan)究(jiu)及(ji)應用(yong)創新(xin)。

產(chan)品型(xing)號：

更新(xin)時(shi)間(jian)：2025-09-09

廠商(shang)性(xing)質：生(sheng)產(chan)廠家(jia)

訪問(wen)量(liang)：3613

產(chan)品咨(zi)詢(xun) 15261868162

product

產(chan)品分類

3D打(da)印(yin)

桌面級3D打(da)印(yin) 多(duo)材(cai)料(liao)光固化(hua)打(da)印(yin) 後(hou)固化(hua)設(she)備(bei) 微納(na)金屬(shu)3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong) 雙精(jing)度3D打(da)印(yin) 工(gong)業(ye)級3D打(da)印(yin) 光敏(min)樹脂3D打(da)印(yin) 陶(tao)瓷3D打(da)印(yin) 微納(na)3D打(da)印(yin) 生(sheng)物(wu)3D打(da)印(yin) 光固化(hua)3D打(da)印(yin)

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品牌(pai)	摩(mo)方精(jing)密(mi)	應用(yong)領(ling)域(yu)	醫療衛(wei)生(sheng),食(shi)品/農(nong)產(chan)品,生(sheng)物(wu)產(chan)業,電子(zi)/電池(chi),制(zhi)藥(yao)/生(sheng)物(wu)制(zhi)藥(yao)
光學(xue)精(jing)度	10μm	打(da)印(yin)材(cai)料(liao)	光敏(min)樹脂、水凝膠(jiao)、陶(tao)瓷漿(jiang)料(liao)

壹、產(chan)品介紹

微納(na)增材(cai)制(zhi)造(zao)3D打(da)印(yin)采(cai)用(yong)的是(shi)面投(tou)影微立(li)體光刻(ke)（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術(shu)。該(gai)技術(shu)使用(yong)高(gao)精(jing)密(mi)紫外光刻(ke)投(tou)影(ying)系(xi)統，將需(xu)打(da)印(yin)圖(tu)案(an)投影到(dao)樹脂槽液(ye)面(mian)，在液(ye)面(mian)固化(hua)樹脂並快(kuai)速微立(li)體成(cheng)型(xing)，從(cong)數(shu)字(zi)模(mo)型(xing)直接加(jia)工三維復雜(za)的模型(xing)和樣件(jian)，完成(cheng)樣品的(de)制(zhi)作(zuo)。該(gai)技術(shu)具(ju)備(bei)成(cheng)型(xing)效率(lv)高(gao)、打(da)印(yin)精(jing)度高(gao)等突(tu)出優(you)勢，被認為是(shi)目前(qian)最有(you)前(qian)景(jing)的微納(na)加工(gong)技術(shu)之(zhi)壹。

在(zai)三維復雜(za)結(jie)構微納(na)加工(gong)領(ling)域(yu)，BMF Material團隊(dui)擁有(you)超過二(er)十年的科研(yan)經(jing)驗，針對(dui)客(ke)戶在(zai)項(xiang)目(mu)研(yan)究(jiu)中(zhong)可能(neng)出現的(de)工(gong)藝(yi)和材料(liao)難(nan)題(ti)，我(wo)們(men)將持(chi)續(xu)提供簡易高(gao)效的技術(shu)支持方案。

二(er)、nanoArch P1403D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)特點

高(gao)精(jing)度（140系(xi)列(lie)的10μm）；

低(di)層(ceng)厚（10μm~40μm的(de)打(da)印(yin)層(ceng)厚效果對(dui)比(bi)）；

光學(xue)監(jian)控系統(tong)，自動(dong)對(dui)焦(jiao)功(gong)能；

配置氣浮平(ping)臺，提高(gao)打(da)印(yin)質(zhi)量(liang)；

優(you)良的光源(yuan)穩定(ding)性(xing)；

配備(bei)完善的(de)樣品後(hou)處(chu)理(li)組件(jian)、包括(kuo)抽(chou)真空(kong)及(ji)紫外後固化(hua)；

三、微納(na)增材(cai)制(zhi)造(zao)使用(yong)的打(da)印(yin)材(cai)料(liao)如(ru)下(xia)：

高(gao)強度材(cai)料(liao)（GR/HTL）

非(fei)常(chang)適(shi)合(he)高(gao)強度產(chan)品快(kuai)速原(yuan)型(xing)（prototype）打(da)印(yin)和制造(zao)，強度接近工程材料(liao)PC。

韌(ren)性(xing)材料(liao)（HEK/HD/UTL）

性(xing)能類似(si)ABS材料(liao)，適(shi)合(he)有(you)卡扣(kou)等有(you)裝配(pei)關(guan)系的(de)原(yuan)型(xing)結(jie)構件加工(gong)和測試(shi)。

耐高(gao)溫材料(liao)(HTL)

熱變形溫度142℃（@0.45MPa），適(shi)用(yong)於高(gao)溫環境下(xia)使用(yong)，例如(ru)醫(yi)療器械高(gao)溫消毒(du)等(deng)應用(yong)。

生(sheng)物(wu)相(xiang)容性(xing)材料(liao)(BIO)

通(tong)過了(le)生(sheng)物(wu)相(xiang)容性(xing)認證(zheng)，適(shi)用(yong)於食(shi)品、牙(ya)科和醫療器械等行(xing)業。

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