摩(mo)方(fang)精(jing)密3D打印是(shi)科(ke)研(yan)級(ji)3D打印系統(tong)，擁(yong)有(you)10μm的超(chao)高打印精(jing)度(du)和10μm的(de)超(chao)低(di)打印層厚，從而(er)實現(xian)超(chao)高精(jing)度(du)的樣(yang)件制作(zuo)，非常(chang)適合(he)高校和(he)研究機構(gou)用於科(ke)學(xue)研(yan)究及應(ying)用創新，為(wei)客戶(hu)提供(gong)好的3D打印服務(wu)體(ti)驗(yan)。

壹、摩(mo)方(fang)精(jing)密3D打印產品介(jie)紹(shao)

nanoArch®是(shi)采(cai)用PUSL（面投影微立(li)體(ti)光(guang)刻）技(ji)術，用於實(shi)現高精(jing)度(du)多材(cai)料(liao)微(wei)納(na)尺(chi)度(du)3D打印的設(she)備。通(tong)過將(jiang)紫(zi)外(wai)光投影到液態(tai)樹(shu)脂表面使(shi)其固化，逐(zhu)層累(lei)加從(cong)而(er)完成(cheng)產品的制作(zuo)。通(tong)過壹次(ci)曝光(guang)可以完成(cheng)壹層的制作(zuo)。

科研(yan)級3D打印系統(tong)，擁(yong)有(you)超(chao)高打印精(jing)度(du)和超(chao)低(di)打印層厚，從而(er)實現(xian)超(chao)高精(jing)度(du)的樣(yang)件制作(zuo)，非常(chang)適合(he)高校和(he)研究機構(gou)用於科(ke)學(xue)研(yan)究及應(ying)用創新。

二、摩(mo)方(fang)精(jing)密3D打印產品特(te)性

1、可定(ding)制高定(ding)位精(jing)度(du)的光(guang)學(xue)系(xi)統(tong)和(he)運動平臺(tai)，兩者(zhe)最(zui)高分(fen)辨(bian)率(lv)皆可達到20μm。

2、采(cai)用圖像(xiang)拼(pin)接(jie)成(cheng)型(xing)方(fang)式(shi)解(jie)決(jue)成(cheng)型(xing)精(jing)度(du)與大尺(chi)寸(cun)成(cheng)型(xing)之(zhi)間(jian)的(de)矛(mao)盾(dun)。

3、通(tong)過工(gong)藝(yi)技(ji)術控(kong)制，實現(xian)3D打印成品的表面光(guang)滑(hua)。

4、光學(xue)方(fang)面(mian)：光(guang)學(xue)實(shi)時監(jian)控(kong)，實現(xian)自動對焦(jiao)及曝(pu)光(guang)補(bu)償。

5、軟件系統(tong)：nanoArch圖形界面控(kong)制系統(tong)，參(can)數端口開(kai)放。

三(san)、使(shi)用環境(jing)要求

1、需避免(mian)的(de)場合(he)：

垃圾、灰(hui)塵(chen)、油(you)霧多的場所(suo)；

震(zhen)動以及(ji)沖擊多的場所(suo)；

能觸(chu)及藥(yao)品和易燃易爆(bao)物(wu)的場所(suo)；

高頻(pin)幹(gan)擾(rao)源(yuan)附(fu)近的(de)場所(suo)；

溫度(du)會急劇變(bian)化(hua)的(de)場所(suo)；

在CO2、NOX、SOX等(deng)濃度(du)高的(de)環境(jing)中(zhong)。

2、環境(jing)濕度(du)：40%-60%

3、環境(jing)溫度(du)：25±3℃

4、電(dian)力需求(qiu)：

100-240V/單(dan)相(xiang)/50/60Hz/15A；

供(gong)電(dian)電(dian)網波(bo)動：＜5%；

電(dian)網地(di)線符合(he)機房國標(biao)要求。