高精(jing)度(du)微納3D打印系(xi)統采用面投(tou)影微立體(ti)光(guang)刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術(shu)，是(shi)目(mu)前行業極少(shao)能實(shi)現(xian)超(chao)高打印(yin)精(jing)度(du)、高公差加工能力(li)的(de)3D打印(yin)系(xi)統。

10微米高精(jing)度(du)微納3D打印系(xi)統是(shi)科研級(ji)和工業級(ji)3D打(da)印(yin)系(xi)統，擁(yong)有10μm的(de)超(chao)高打印(yin)精(jing)度(du)和10μm的(de)超(chao)低打(da)印(yin)層(ceng)厚，從(cong)而(er)實(shi)現(xian)超(chao)高精(jing)度(du)的(de)樣件(jian)制作，非(fei)常適(shi)合高校和研究機(ji)構(gou)用於科學(xue)研究及(ji)應用創(chuang)新(xin)。

nanoArch S140 10μm精(jing)度(du)微納3D打印系(xi)統是(shi)可(ke)以實(shi)現(xian)高精(jing)度(du)大幅面微尺度3D打(da)印的(de)設(she)備系(xi)統，它采(cai)用的(de)是(shi)面投(tou)影微立體(ti)光(guang)刻(ke)（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技(ji)術(shu)。該技(ji)術(shu)使用高精(jing)密(mi)紫(zi)外(wai)光刻(ke)投(tou)影系(xi)統，將需打印(yin)圖案投(tou)影到(dao)樹脂(zhi)槽(cao)液(ye)面，在(zai)液(ye)面固化(hua)樹脂(zhi)並(bing)快速微立體(ti)成型(xing)，從(cong)數字(zi)模型(xing)直(zhi)接加工三(san)維(wei)復雜(za)的(de)模型(xing)和樣件(jian)，完成樣品(pin)的(de)制作。

nanoArch P140 10μm精(jing)度(du)微納3D打印系(xi)統是(shi)科研級(ji)3D打(da)印(yin)系(xi)統，擁(yong)有10μm的(de)超(chao)高打印(yin)精(jing)度(du)和10μm的(de)超(chao)低打(da)印(yin)層(ceng)厚，從(cong)而(er)實(shi)現(xian)超(chao)高精(jing)度(du)的(de)樣件(jian)制作，非(fei)常適(shi)合高校和研究機(ji)構(gou)用於科學(xue)研究及(ji)應用創(chuang)新(xin)。

nanoArch S130 2μm精(jing)度(du)微納3D打印系(xi)統是(shi)由(you)摩(mo)方精(jing)密(mi)自主(zhu)研發(fa)的(de)超(chao)高精(jing)度(du)微尺度3D打(da)印系(xi)統。設(she)備采用面投(tou)影微立體(ti)光(guang)刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術(shu)，是(shi)目(mu)前行業極少(shao)能實(shi)現(xian)超(chao)高打印(yin)精(jing)度(du)、高公差加工能力(li)的(de)3D打印(yin)系(xi)統。