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        1. 產品中(zhong)心

          Product Center

          當(dang)前位(wei)置:首(shou)頁產(chan)品中(zhong)心3D打(da)印微納3D打(da)印nanoArch S1302μm精(jing)度微納3D打(da)印系統(tong)

          2μm精(jing)度微納3D打(da)印系統(tong)

          產(chan)品簡(jian)介(jie)

          nanoArch S130 2μm精(jing)度微納3D打(da)印系統(tong)是(shi)由摩方(fang)精(jing)密(mi)自主研發(fa)的超(chao)高(gao)精(jing)度微尺度3D打(da)印系統(tong)。設(she)備(bei)采(cai)用(yong)面(mian)投(tou)影微立體(ti)光刻(ke)(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術(shu),是(shi)目(mu)前行(xing)業極(ji)少能(neng)實現(xian)超(chao)高(gao)打(da)印精(jing)度、高(gao)公差(cha)加(jia)工(gong)能力(li)的3D打(da)印系統(tong)。

          產(chan)品型號(hao):nanoArch S130
          更(geng)新時間:2025-09-09
          廠商性質(zhi):生產廠(chang)家
          訪問(wen)量:4720
          詳(xiang)細介(jie)紹在線(xian)留言(yan)
          品牌摩(mo)方精(jing)密(mi)應(ying)用領(ling)域醫(yi)療(liao)衛生,食品/農產品,生物產(chan)業,電(dian)子(zi)/電(dian)池,制(zhi)藥(yao)/生物制(zhi)藥(yao)
          光學精(jing)度2μm打(da)印材料(liao)光敏樹脂(zhi)
          打(da)印層厚(hou)5-20μm最大打(da)印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
          光源UV?LED(405nm)

          壹(yi)、產品介(jie)紹

          nanoArch S130 2μm精(jing)度微納3D打(da)印系統(tong)由(you)摩方精(jing)密(mi)自主研發(fa)的高(gao)精(jing)密(mi)微納3D打(da)印系統(tong)。設(she)備(bei)采(cai)用(yong)面(mian)投(tou)影微立體(ti)光刻(ke)(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術(shu),是(shi)目(mu)前行(xing)業極(ji)少能(neng)實現(xian)超(chao)高(gao)打(da)印精(jing)度、高(gao)公差(cha)加(jia)工(gong)能力(li)的3D打(da)印系統(tong)。PμSL技(ji)術(shu)使(shi)用高(gao)精(jing)度紫(zi)外光刻(ke)投(tou)影系(xi)統(tong),將(jiang)需打(da)印模型分(fen)層投(tou)影至樹脂(zhi)液(ye)面(mian),快速微立體(ti)成(cheng)型,從(cong)數(shu)字模(mo)型直(zhi)接(jie)加工(gong)三維復雜(za)工(gong)業樣件。該技(ji)術(shu)具有(you)成(cheng)型效率高(gao)、加工(gong)成本低等突(tu)出優勢,被認(ren)為是目(mu)前非(fei)常(chang)具有(you)前(qian)景的微尺度加工(gong)技術(shu)之壹(yi)。



          二(er)、基(ji)本參數(shu)

          光源:UV-LED(405nm)

          打(da)印材料(liao):硬性樹脂(zhi)、耐高(gao)溫樹脂(zhi)、韌性樹脂(zhi)、生物兼容(rong)性樹脂(zhi)等

          光學精(jing)度:2μm

          打(da)印層厚(hou):5-20μm

          打(da)印尺寸:

          ①模式壹(yi):3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單(dan)投(tou)影模(mo)式)

          ②模式二(er):38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接(jie)模(mo)式)

          ③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重復陣(zhen)列模式)

          文件格(ge)式:STL

          系統外形(xing)尺(chi)寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

          重量:550kg

          電氣(qi)要(yao)求(qiu):200-240V AC,50/60HZ,3kW


          三、應(ying)用領(ling)域

          nanoArch S130 2μm精(jing)度微納3D打(da)印系統(tong)可廣泛應(ying)用於(yu)力學超(chao)材料(liao)、生物醫(yi)療(liao)、微機械(xie)結構(gou)、微流控(kong)、三維復雜(za)仿(fang)生結構(gou)等(deng)領(ling)域


          四(si)、企(qi)業簡(jian)介(jie)

          摩(mo)方(fang)精(jing)密(mi)(BMF,Boston Micro Fabrication)是全(quan)球(qiu)微尺度3D打(da)印技術(shu)及(ji)精(jing)密(mi)加工(gong)能力(li)解(jie)決(jue)方案(an)提(ti)供(gong)商。專註於(yu)精(jing)密(mi)器(qi)件(jian)免除模(mo)具壹(yi)次(ci)成(cheng)型能(neng)力(li)的研(yan)發,提(ti)供(gong)制(zhi)造(zao)復雜(za)三維微納結(jie)構(gou)技(ji)術(shu)解(jie)決(jue)方案(an),同(tong)時,可結合(he)不(bu)同(tong)材料(liao)及(ji)工(gong)藝(yi),實現(xian)終端(duan)產品高(gao)效、低成本批(pi)量化(hua)生成及(ji)銷售(shou)。


          上(shang)壹(yi)個(ge):沒有了

          返(fan)回(hui)列表

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