高(gao)精度微納3D打(da)印(yin)系統(tong)采用面投影(ying)微立體光刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術，是目(mu)前(qian)行(xing)業極少(shao)能(neng)實(shi)現超高(gao)打(da)印(yin)精度、高(gao)公差(cha)加工(gong)能力(li)的3D打(da)印(yin)系統(tong)。

壹、高(gao)精密增材(cai)制造3D打(da)印(yin)介(jie)紹

nanoArch S130 2μm精(jing)度微納3D打(da)印(yin)系統(tong)由(you)摩(mo)方精(jing)密自(zi)主(zhu)研(yan)發的高(gao)精密微(wei)納3D打(da)印(yin)系統(tong)。設備采用面投影(ying)微立體光刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術，是目(mu)前(qian)行(xing)業極少(shao)能(neng)實(shi)現超高(gao)打(da)印(yin)精度、高(gao)公差(cha)加工(gong)能力(li)的3D打(da)印(yin)系統(tong)。PμSL技(ji)術使用高(gao)精度紫外(wai)光(guang)刻投影(ying)系統(tong)，將(jiang)需打(da)印(yin)模型(xing)分(fen)層(ceng)投影(ying)至(zhi)樹(shu)脂液(ye)面(mian)，快(kuai)速(su)微立體成(cheng)型(xing)，從數(shu)字(zi)模型(xing)直(zhi)接加工(gong)三維復雜(za)工(gong)業樣件(jian)。該(gai)技(ji)術具(ju)有成(cheng)型(xing)效(xiao)率(lv)高(gao)、加工(gong)成(cheng)本低等突出優勢，被(bei)認(ren)為是目(mu)前(qian)非常具(ju)有前(qian)景的微(wei)尺(chi)度加工(gong)技(ji)術之(zhi)壹。

二(er)、高(gao)精密增材(cai)制造3D打(da)印(yin)基本參(can)數(shu)

光(guang)源：UV-LED(405nm)

打(da)印(yin)材料：硬性樹(shu)脂、耐(nai)高(gao)溫樹(shu)脂、韌性樹(shu)脂、生物(wu)兼容性樹(shu)脂等

光(guang)學精(jing)度：2μm

打(da)印(yin)層(ceng)厚(hou)：5-20μm

打(da)印(yin)尺(chi)寸(cun)：

①模式壹：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單(dan)投影(ying)模式）

②模式二(er)：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重復陣列(lie)模式）

文件格(ge)式：STL

系統(tong)外(wai)形(xing)尺(chi)寸(cun)：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重量：550kg

電(dian)氣(qi)要求：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、應(ying)用領域(yu)

nanoArch S130 2μm精(jing)度微納3D打(da)印(yin)系統(tong)可(ke)廣(guang)泛(fan)應(ying)用於力(li)學超材料、生物(wu)醫(yi)療、微(wei)機械結(jie)構(gou)、微(wei)流控(kong)、三維復雜(za)仿(fang)生結構(gou)等(deng)領域(yu)。