摩(mo)方精(jing)密(mi)3D打印(yin)是(shi)科(ke)研級3D打印(yin)系(xi)統，擁(yong)有10μm的(de)超(chao)高(gao)打印(yin)精(jing)度(du)和(he)10μm的(de)超(chao)低(di)打印(yin)層(ceng)厚(hou)，從(cong)而實(shi)現超(chao)高(gao)精(jing)度(du)的(de)樣件(jian)制(zhi)作，非常(chang)適合(he)高(gao)校(xiao)和(he)研究(jiu)機(ji)構(gou)用於科(ke)學研究(jiu)及(ji)應(ying)用創(chuang)新(xin)，為客戶(hu)提(ti)供好(hao)的(de)3D打印(yin)服(fu)務(wu)體(ti)驗。

高(gao)精(jing)度(du)微納(na)3D打印(yin)系(xi)統采(cai)用面投影微(wei)立體(ti)光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術(shu)，是(shi)目(mu)前行(xing)業極少(shao)能(neng)實(shi)現超(chao)高(gao)打印(yin)精(jing)度(du)、高(gao)公差(cha)加工(gong)能(neng)力的(de)3D打印(yin)系(xi)統。

光固(gu)化陶瓷3D打印(yin)機(ji)microArch S240A，是(shi)由(you)摩(mo)方精(jing)密(mi)自(zi)主(zhu)研發的(de)超(chao)高(gao)精(jing)度(du)微尺度(du)3D打印(yin)系(xi)統。設(she)備采用面投影微(wei)立體(ti)光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術(shu)，是(shi)目(mu)前行(xing)業極少(shao)能(neng)實(shi)現超(chao)高(gao)打印(yin)精(jing)度(du)、高(gao)公差(cha)加工(gong)能(neng)力的(de)3D打印(yin)系(xi)統。

10微(wei)米高(gao)精(jing)度(du)微納(na)3D打印(yin)系(xi)統是(shi)科(ke)研級和(he)工(gong)業級3D打印(yin)系(xi)統，擁(yong)有10μm的(de)超(chao)高(gao)打印(yin)精(jing)度(du)和(he)10μm的(de)超(chao)低(di)打印(yin)層(ceng)厚(hou)，從(cong)而實(shi)現超(chao)高(gao)精(jing)度(du)的(de)樣件(jian)制(zhi)作，非常(chang)適合(he)高(gao)校(xiao)和(he)研究(jiu)機(ji)構(gou)用於科(ke)學研究(jiu)及(ji)應(ying)用創(chuang)新(xin)。

nanoArch S140 10μm精(jing)度(du)微納(na)3D打印(yin)系(xi)統是(shi)可(ke)以(yi)實(shi)現高(gao)精(jing)度(du)大幅面(mian)微尺度(du)3D打印(yin)的(de)設備(bei)系(xi)統，它(ta)采(cai)用的(de)是(shi)面(mian)投影微(wei)立體(ti)光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技(ji)術(shu)。該技術(shu)使用高(gao)精(jing)密(mi)紫外光刻投影系(xi)統，將需(xu)打印(yin)圖案投影到(dao)樹(shu)脂(zhi)槽(cao)液(ye)面，在液(ye)面固化樹(shu)脂(zhi)並(bing)快(kuai)速(su)微立體(ti)成型(xing)，從(cong)數(shu)字(zi)模型(xing)直接加(jia)工(gong)三維復雜的(de)模型(xing)和(he)樣件(jian)，完成樣品的(de)制(zhi)作。