nanoArch P150 25μm高(gao)精密(mi)3D打印系(xi)統是科(ke)研級3D打印系(xi)統，擁有(you)25μm的打印精(jing)度(du)和(he)10μm的(de)超(chao)低打印層(ceng)厚(hou)，具(ju)備優(you)良(liang)的光(guang)源(yuan)穩定(ding)性，非(fei)常適合(he)高(gao)校和(he)研究(jiu)機構用(yong)於科(ke)學研究(jiu)及應用(yong)創(chuang)新。

nanoArch P140 10μm精(jing)度微納(na)3D打印系(xi)統是科(ke)研級3D打印系(xi)統，擁有(you)10μm的超(chao)高打印精(jing)度(du)和(he)10μm的(de)超(chao)低打印層(ceng)厚(hou)，從(cong)而實現(xian)超(chao)高精(jing)度(du)的(de)樣(yang)件制作，非(fei)常適合(he)高(gao)校和(he)研究(jiu)機構用(yong)於科(ke)學研究(jiu)及應用(yong)創(chuang)新。

光(guang)敏(min)樹脂(zhi)3D打印機(ji)作為(wei)壹種常見的3D打印技術，具(ju)有(you)高精(jing)度、高(gao)速(su)度(du)、多材(cai)料(liao)等(deng)優點(dian)，被(bei)廣泛應用(yong)於(yu)制造(zao)、醫(yi)療、藝(yi)術設計等(deng)領域。

nanoArch S130 2μm精(jing)度微納(na)3D打印系(xi)統是由(you)摩(mo)方(fang)精(jing)密(mi)自主(zhu)研發的(de)超(chao)高精(jing)度(du)微(wei)尺度3D打印系(xi)統。設備采(cai)用(yong)面投影微(wei)立體光(guang)刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目前行業極少能(neng)實現(xian)超(chao)高打印精(jing)度(du)、高(gao)公差加工(gong)能(neng)力的3D打印系(xi)統。

microArch S240A 10μm高(gao)精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打印系(xi)統基於BMF摩方(fang)的(de)技術⸺面投影微(wei)立體光(guang)刻(ke)技術（PμSL）構建，並融(rong)入(ru)了(le)摩(mo)方(fang)自(zi)主開(kai)發的(de)多項(xiang)技術。摩方(fang)PμSL是壹種微米(mi)級精度的3D光(guang)刻(ke)技術，這(zhe)壹技術利用液態樹脂(zhi)在UV光(guang)照(zhao)下的光(guang)聚(ju)合(he)作用，使用(yong)滾刀快(kuai) 速(su)塗(tu)層技術大大降(jiang)低(di)每(mei)層打印的(de)時(shi)間(jian)，並(bing)通過打印平(ping)臺(tai)三維移(yi)動(dong)逐層(ceng)累(lei)積成(cheng)型制作出復(fu)雜三維器(qi)件。