光(guang)固(gu)化3D打(da)印是由(you)摩方(fang)精密(mi)自主(zhu)研發的(de)超高(gao)精度(du)微尺度3D打印系統。設備(bei)采用面(mian)投(tou)影微立體光(guang)刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是目(mu)前(qian)行業極(ji)少能實(shi)現(xian)超高(gao)打(da)印精度(du)、高公差加(jia)工(gong)能力(li)的3D打(da)印系統。

壹、光(guang)固(gu)化3D打(da)印產品(pin)介紹

設備(bei)采用面(mian)投(tou)影微立體光(guang)刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，該(gai)技術使用高精密(mi)紫外光(guang)刻(ke)投影系統，將需(xu)打印圖案投影(ying)到樹(shu)脂(zhi)槽(cao)液面(mian)，在液面(mian)固(gu)化樹(shu)脂(zhi)並(bing)快(kuai)速(su)微立體成(cheng)型，從數字模型直(zhi)接加(jia)工(gong)三維復(fu)雜的模(mo)型和(he)樣件，完(wan)成(cheng)樣品(pin)的制(zhi)作(zuo)。該(gai)技術具(ju)備(bei)成(cheng)型效(xiao)率高(gao)、打(da)印精度(du)高等(deng)突出優勢(shi)，被(bei)認為是目(mu)前(qian)最(zui)有(you)前(qian)景(jing)的(de)微納(na)加(jia)工(gong)技術之壹。

二、光(guang)固(gu)化3D打(da)印基(ji)本參(can)數(shu)

光(guang)源(yuan)：UV-LED(405nm)

打印材(cai)料(liao)：硬(ying)性樹(shu)脂(zhi)、耐高(gao)溫樹(shu)脂(zhi)、韌(ren)性樹(shu)脂(zhi)、生物兼容性樹(shu)脂(zhi)等(deng)

光(guang)學(xue)精度(du)：2μm

打印層厚：5-20μm

打(da)印尺寸(cun)：

①模式壹：3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)（單(dan)投(tou)影模式）

②模式二：38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)（拼接模式）

③模式三：50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)（重(zhong)復(fu)陣列模(mo)式）

文(wen)件格(ge)式：STL

系統外形尺(chi)寸(cun)：1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

重(zhong)量(liang)：550kg

電(dian)氣要求(qiu)：200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、應用(yong)領域(yu)

nanoArch S130 2μm精度(du)微納(na)3D打印系統可廣泛(fan)應(ying)用(yong)於(yu)力(li)學(xue)超材(cai)料(liao)、生物醫療、微機械結(jie)構(gou)、微流控、三維復(fu)雜仿(fang)生結(jie)構(gou)等(deng)領域(yu)。

作為微納(na)3D打印行業，在三維復(fu)雜結(jie)構(gou)微納(na)加(jia)工(gong)領域(yu)，BMF Material團隊擁有(you)超過(guo)二十(shi)年(nian)的(de)科(ke)研(yan)經(jing)驗(yan)，針對(dui)客戶(hu)在項(xiang)目研(yan)究(jiu)中(zhong)可能出現(xian)的工(gong)藝和(he)材(cai)料(liao)難(nan)題(ti)，我們將持續(xu)提(ti)供(gong)簡(jian)易(yi)高效(xiao)的技術支持方(fang)案(an)。