摩方精(jing)密(mi)3D打(da)印(yin)是(shi)科研(yan)級3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)，擁(yong)有(you)10μm的超高(gao)打(da)印(yin)精(jing)度(du)和(he)10μm的超低打(da)印(yin)層(ceng)厚，從(cong)而(er)實(shi)現超高(gao)精(jing)度(du)的樣件(jian)制作，非(fei)常適合高(gao)校(xiao)和(he)研(yan)究(jiu)機構用(yong)於(yu)科學研(yan)究(jiu)及(ji)應(ying)用(yong)創(chuang)新，為(wei)客(ke)戶(hu)提(ti)供好(hao)的3D打(da)印(yin)服(fu)務體(ti)驗(yan)。

器(qi)官(guan)芯片3d打(da)印(yin)，毛細血管器(qi)官(guan)芯片，整(zheng)體(ti)結構尺(chi)寸(cun)為(wei)18 mm(L)x10 mm(W)x5 mm(H)，結構內部(bu)共(gong)5層(ceng)流道(dao)，每(mei)層(ceng)有(you)14行平(ping)行通(tong)道(dao)（尺(chi)寸(cun)為(wei)25μm），且每(mei)條(tiao)通(tong)道(dao)上均(jun)有(you)間(jian)隔300 μm的梯(ti)形...

高(gao)精(jing)度(du)微納3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)采(cai)用(yong)面(mian)投影微立體(ti)光刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術，是目(mu)前行(xing)業(ye)極(ji)少能實現超高(gao)打(da)印(yin)精(jing)度(du)、高(gao)公差加工(gong)能力(li)的3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)。

光固化(hua)陶(tao)瓷(ci)3D打(da)印(yin)機microArch S240A，是由摩方精(jing)密(mi)自主(zhu)研(yan)發的(de)超高(gao)精(jing)度(du)微尺(chi)度(du)3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)。設備采(cai)用(yong)面(mian)投影微立體(ti)光刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithogr...

10微(wei)米高(gao)精(jing)度(du)微納3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)是(shi)科研(yan)級和(he)工業級3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)，擁(yong)有(you)10μm的超高(gao)打(da)印(yin)精(jing)度(du)和(he)10μm的超低打(da)印(yin)層(ceng)厚，從(cong)而(er)實(shi)現超高(gao)精(jing)度(du)的樣件(jian)制作，非(fei)常適合高(gao)校(xiao)和(he)研(yan)究(jiu)機構用(yong)於(yu)科學研(yan)究(jiu)及(ji)應(ying)用(yong)創(chuang)新。

nanoArch S140 10μm精(jing)度(du)微納3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)是(shi)可(ke)以(yi)實現高(gao)精(jing)度(du)大幅面(mian)微(wei)尺(chi)度(du)3D打(da)印(yin)的(de)設備系(xi)統(tong)，它采(cai)用(yong)的(de)是面投影微立體(ti)光刻(ke)（PμSL：Projection Micro Litho Stereo...

nanoArch P150 25μm高(gao)精(jing)密(mi)3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)是(shi)科研(yan)級3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)，擁(yong)有(you)25μm的打(da)印(yin)精(jing)度(du)和(he)10μm的超低打(da)印(yin)層(ceng)厚，具備優良(liang)的(de)光(guang)源(yuan)穩(wen)定性，非(fei)常適合高(gao)校(xiao)和(he)研(yan)究(jiu)機構用(yong)於(yu)科學研(yan)究(jiu)及(ji)應(ying)用(yong)創(chuang)新。

微(wei)流(liu)控芯片3D打(da)印(yin)采(cai)用(yong)面(mian)投影微立體(ti)光刻(ke)（PμSL）技(ji)術和(he)數字微流控芯片，具備2-25微米光(guang)學精(jing)度(du)加工能力(li)，支(zhi)持光(guang)敏(min)樹(shu)脂(zhi)、透(tou)明(ming)樹(shu)脂(zhi)、水凝(ning)膠(jiao)、PDMS等(deng)材料(liao)。具備優良(liang)的(de)光(guang)源(yuan)穩(wen)定性，非(fei)常適合高(gao)校(xiao)和(he)研(yan)究(jiu)機構用(yong)...

nanoArch P140 10μm精(jing)度(du)微納3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)是(shi)科研(yan)級3D打(da)印(yin)系(xi)統(tong)，擁(yong)有(you)10μm的超高(gao)打(da)印(yin)精(jing)度(du)和(he)10μm的超低打(da)印(yin)層(ceng)厚，從(cong)而(er)實(shi)現超高(gao)精(jing)度(du)的樣件(jian)制作，非(fei)常適合高(gao)校(xiao)和(he)研(yan)究(jiu)機構用(yong)於(yu)科學研(yan)究(jiu)及(ji)應(ying)用(yong)創(chuang)...

內窺(kui)鏡(jing)是壹種用於觀(guan)察(cha)和(he)診斷(duan)人體(ti)內部(bu)病變的(de)醫(yi)療(liao)設備，通常由鏡頭(tou)、光源(yuan)和(he)導管組成(cheng)。利(li)用內窺(kui)鏡(jing)3D打(da)印(yin)技(ji)術，拓展(zhan)了(le)在(zai)精(jing)密(mi)內窺(kui)鏡(jing)打(da)印(yin)的(de)應(ying)用(yong)，可(ke)高(gao)效實現小(xiao)批(pi)量規模化(hua)的打(da)印(yin)制作。