摩方精(jing)密(mi)3D打印是(shi)科研(yan)級(ji)3D打印系(xi)統，擁有(you)10μm的超(chao)高打印精(jing)度(du)和10μm的超(chao)低(di)打(da)印層(ceng)厚(hou)，從而(er)實(shi)現(xian)超(chao)高精度(du)的樣件制(zhi)作，非(fei)常(chang)適合(he)高校和研(yan)究(jiu)機構(gou)用(yong)於科學(xue)研(yan)究(jiu)及應用(yong)創新(xin)，為(wei)客(ke)戶提供好的3D打印服(fu)務體驗(yan)。

高精度(du)微納3D打(da)印系(xi)統采用(yong)面投影微(wei)立(li)體光刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是(shi)目前行業(ye)極(ji)少能(neng)實現(xian)超(chao)高打印精(jing)度(du)、高公差(cha)加工(gong)能(neng)力的3D打印系(xi)統。

光(guang)固化陶瓷3D打印機(ji)microArch S240A，是(shi)由摩方精(jing)密(mi)自主研(yan)發(fa)的超(chao)高精度(du)微尺度(du)3D打印系(xi)統。設(she)備采用(yong)面投影微(wei)立(li)體光刻(ke)（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術，是(shi)目前行業(ye)極(ji)少能(neng)實現(xian)超(chao)高打印精(jing)度(du)、高公差(cha)加工(gong)能(neng)力的3D打印系(xi)統。

10微(wei)米(mi)高精度(du)微納3D打(da)印系(xi)統是(shi)科研(yan)級(ji)和工(gong)業(ye)級(ji)3D打(da)印系(xi)統，擁有(you)10μm的超(chao)高打印精(jing)度(du)和10μm的超(chao)低(di)打(da)印層(ceng)厚(hou)，從而(er)實(shi)現(xian)超(chao)高精度(du)的樣件制(zhi)作，非(fei)常(chang)適合(he)高校和研(yan)究(jiu)機構(gou)用(yong)於科學(xue)研(yan)究(jiu)及應用(yong)創新(xin)。

nanoArch S140 10μm精(jing)度(du)微納(na)3D打印系(xi)統是(shi)可以(yi)實現(xian)高精度(du)大幅面微尺度(du)3D打印的設備系(xi)統，它(ta)采用(yong)的是(shi)面投影微(wei)立(li)體光刻(ke)（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技術。該技術使用(yong)高精密(mi)紫外光刻(ke)投影系(xi)統，將需(xu)打印圖案投影到(dao)樹(shu)脂槽(cao)液面，在液面固化樹(shu)脂並快速(su)微(wei)立(li)體成型(xing)，從數字模(mo)型(xing)直接(jie)加工(gong)三(san)維復(fu)雜的模型(xing)和樣件，完成樣品(pin)的制(zhi)作。