microArch S240A 10μm高(gao)精度(du)微納(na)3D打印(yin)系統(tong)基(ji)於(yu)BMF摩(mo)方(fang)的(de)技術(shu)⸺面(mian)投影微(wei)立體光(guang)刻技術(shu)（PμSL）構(gou)建，並(bing)融(rong)入了(le)摩方(fang)自主(zhu)開(kai)發的(de)多(duo)項(xiang)技(ji)術。摩方PμSL是壹(yi)種微米(mi)級(ji)精度(du)的(de)3D光(guang)刻技術(shu)，這壹(yi)技術利(li)用液(ye)態(tai)樹(shu)脂在(zai)UV光(guang)照下(xia)的(de)光(guang)聚合(he)作用(yong)，使(shi)用滾(gun)刀(dao)快 速塗(tu)層(ceng)技(ji)術(shu)大(da)大(da)降(jiang)低(di)每(mei)層打印(yin)的(de)時間(jian)，並通過打印(yin)平臺三維(wei)移(yi)動逐層(ceng)累積成(cheng)型制作出復雜(za)三維(wei)器件。

微(wei)納(na)3D打印(yin)microArch® S240A基(ji)於(yu)PμSL技(ji)術(shu)，具(ju)備(bei)10微米打印(yin)精(jing)度(du)，支(zhi)持(chi)光(guang)敏樹脂和陶瓷漿料(liao)打印(yin)，專(zhuan)註(zhu)於(yu)微(wei)尺(chi)度(du)結構(gou)的(de)穩定成(cheng)型。系統(tong)搭(da)載(zai)自動調平系統(tong)，集(ji)平臺自動調平，繃膜自動調平和滾(gun)刀自動調節(jie)三大(da)功能(neng)，使(shi)工藝(yi)參(can)數(shu)設(she)置、液(ye)面(mian)調平、流平時間(jian)等(deng)步驟實(shi)現全(quan)自動作業(ye)模(mo)式(shi)。

摩(mo)方(fang)高(gao)精度(du)光(guang)固化(hua)3d打印(yin)機(ji)microArch® S230（精(jing)度(du)：2μm），基(ji)於(yu)面(mian)投影微(wei)立體光(guang)刻技術(shu)（PμSL）構(gou)建。全(quan)自動水平調節(jie)系統(tong)：平臺自動調平、膜面(mian)自動調平、滾刀(dao)自動調節(jie)三大(da)系統(tong)，打印(yin)效(xiao)率提升(sheng)近50倍(bei)。

高(gao)精度(du)微納(na)3D打印(yin)系統(tong)nanoArch S130 ，光(guang)學精度(du)2微米(mi)，支(zhi)持(chi)光(guang)敏樹脂材料打印(yin)。系統(tong)基(ji)於(yu)摩(mo)方(fang)精(jing)密(mi)創(chuang)新面(mian)投影微(wei)立體光(guang)刻技術(shu)（PμSL），並融(rong)入了(le)摩方(fang)自主(zhu)開(kai)發的(de)多(duo)項(xiang)技(ji)術。