高(gao)精度微納3D打印(yin)系統采用(yong)面投影(ying)微立(li)體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術，是(shi)目(mu)前(qian)行業(ye)極(ji)少能(neng)實現(xian)超(chao)高(gao)打(da)印(yin)精度、高(gao)公(gong)差(cha)加(jia)工能力(li)的3D打(da)印(yin)系統。

10微米高(gao)精度微納3D打印(yin)系統是(shi)科研級(ji)和工業(ye)級3D打(da)印(yin)系統，擁有(you)10μm的超(chao)高(gao)打(da)印(yin)精度和10μm的超(chao)低(di)打印(yin)層(ceng)厚，從(cong)而實現(xian)超(chao)高(gao)精度的樣件(jian)制作(zuo)，非常(chang)適合(he)高(gao)校(xiao)和(he)研究(jiu)機(ji)構用(yong)於(yu)科學(xue)研究(jiu)及應(ying)用(yong)創新(xin)。

nanoArch S140 10μm精度微納3D打印(yin)系統是(shi)可(ke)以(yi)實現(xian)高(gao)精度大幅(fu)面微尺(chi)度3D打印的設(she)備系統，它(ta)采用(yong)的是(shi)面(mian)投影微立(li)體光刻（PμSL：Projection Micro Litho Stereo Exposure）技(ji)術。該(gai)技術(shu)使(shi)用(yong)高(gao)精密(mi)紫外(wai)光刻投(tou)影系統，將(jiang)需(xu)打印(yin)圖案投(tou)影(ying)到(dao)樹(shu)脂(zhi)槽(cao)液面，在(zai)液面固(gu)化(hua)樹(shu)脂(zhi)並(bing)快(kuai)速(su)微立(li)體成型，從(cong)數(shu)字模(mo)型直(zhi)接(jie)加工三維(wei)復雜的模(mo)型和(he)樣件(jian)，完(wan)成(cheng)樣品(pin)的制(zhi)作(zuo)。

nanoArch P140 10μm精度微納3D打印(yin)系統是(shi)科研級(ji)3D打印(yin)系統，擁有(you)10μm的超(chao)高(gao)打(da)印(yin)精度和10μm的超(chao)低(di)打印(yin)層(ceng)厚，從(cong)而實現(xian)超(chao)高(gao)精度的樣件(jian)制作(zuo)，非常(chang)適合(he)高(gao)校(xiao)和(he)研究(jiu)機(ji)構用(yong)於(yu)科學(xue)研究(jiu)及應(ying)用(yong)創新(xin)。

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印(yin)系統是(shi)由(you)摩(mo)方(fang)精密(mi)自主(zhu)研發(fa)的超(chao)高(gao)精度微尺(chi)度3D打印系統。設(she)備采用(yong)面投影(ying)微立(li)體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技(ji)術，是(shi)目(mu)前(qian)行業(ye)極(ji)少能(neng)實現(xian)超(chao)高(gao)打(da)印(yin)精度、高(gao)公(gong)差(cha)加(jia)工能力(li)的3D打(da)印(yin)系統。