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摩(mo)方(fang)精(jing)密3D打(da)印(yin)
2微(wei)米(mi)高(gao)精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)系統
microArch S240A10μm高(gao)精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)
器(qi)官(guan)芯(xin)片(pian)3d打(da)印(yin)
nanoArch P14010μm精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)系統
nanoArch S1302μm精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)系統
微(wei)納(na)陶(tao)瓷(ci)3D打(da)印(yin)服務(wu)
nanoArch S14010μm精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)系統
nanoArch P15025μm高(gao)精(jing)密3D打(da)印(yin)系統
microArch S240A光(guang)固(gu)化(hua)陶(tao)瓷(ci)3D打(da)印(yin)機(ji)
3D打(da)印(yin)微(wei)針
微(wei)流控(kong)芯(xin)片(pian)3D打(da)印(yin)
精(jing)密連接(jie)器(qi)3D打(da)印(yin)
10微(wei)米(mi)高(gao)精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)系統
nanoArch S1403d打(da)印(yin)精(jing)密醫療(liao)內窺(kui)鏡
光(guang)固(gu)化(hua)3D打(da)印(yin)
更(geng)新時(shi)間(jian):2025-11-17
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2026年01月(yue)09日(ri)至(zhi)21日(ri),全(quan)球增材(cai)制造行業的頂尖盛(sheng)會——德(de)國(guo)Formnext展會將(jiang)於法蘭克(ke)福(fu)國(guo)際(ji)展(zhan)覽中心舉(ju)辦。作(zuo)為(wei)精(jing)密制造領(ling)域的專精(jing)特新"小(xiao)巨人(ren)"企(qi)業,摩(mo)方(fang)精(jing)密將再度(du)亮(liang)相這(zhe)壹(yi)國(guo)際舞臺,於11.1號館(guan)B46展(zhan)位,全(quan)面展示其超高精(jing)密增材制(zhi)造技術、系列化(hua)設備及多元(yuan)化(hua)應用(yong)解決(jue)方(fang)案。
本(ben)次展(zhan)會上,摩(mo)方(fang)精(jing)密將重點(dian)推(tui)介——榮獲全(quan)球光(guang)電(dian)科技領(ling)域最高(gao)榮譽"棱鏡獎(jiang)"(Prism Award)的microArch® S240A(精(jing)度(du):10μm) 超(chao)高精(jing)度(du)3D打(da)印(yin)系統。屆(jie)時(shi),摩(mo)方(fang)精(jing)密還將系統展(zhan)示在(zai)醫療(liao)器(qi)械(xie)、精(jing)密電(dian)子、微(wei)流控(kong)、工(gong)業連(lian)接(jie)器(qi)等(deng)重點領域的創(chuang)新應用(yong)成果(guo),包(bao)括精(jing)密陶(tao)瓷(ci)部(bu)件(jian)、電(dian)鍍金(jin)屬(shu)樣件(jian)、微(wei)流控(kong)芯(xin)片(pian)等代(dai)表性(xing)產(chan)品(pin)。摩(mo)方(fang)精(jing)密期待通(tong)過此(ci)次(ci)展(zhan)會,與(yu)全(quan)球產(chan)業界(jie)和(he)學術界(jie)專家開展深度(du)技術交流,共同拓展(zhan)微(wei)納(na)增(zeng)材制造(zao)技術的創(chuang)新邊界(jie)與(yu)應用(yong)場景(jing)。

本(ben)次展(zhan)會,摩(mo)方(fang)精(jing)密將重點(dian)展示超高精(jing)度(du)3D打(da)印(yin)系統:microArch® S240A ,設(she)備集超高精(jing)度(du)、大幅面(mian)成型(xing)與工業級(ji)穩定性(xing)於壹(yi)體,為(wei)各(ge)類科研院所和工(gong)業企(qi)業提(ti)供(gong)技術解決(jue)方(fang)案。
S240A的光(guang)學精(jing)度(du)可高(gao)達10微(wei)米(mi),並(bing)具備100mm×100mm×75mm 的成型(xing)尺寸,能夠同時(shi)滿(man)足(zu)宏(hong)觀(guan)樣(yang)件(jian)制(zhi)造(zao)與微(wei)細結(jie)構(gou)成型(xing)的雙重需求(qiu)。設備采用(yong)摩(mo)方(fang)精(jing)密創(chuang)新的面投(tou)影微(wei)立(li)體光(guang)刻(ke)(PμSL)技術,並(bing)搭(da)載(zai)先進的自動(dong)水平(ping)調節(jie)系統,實(shi)現(xian)了打(da)印(yin)平(ping)臺自動(dong)調平(ping)、膜(mo)面自動(dong)調平(ping)與(yu)滾刀(dao)自動(dong)調節(jie),顯著(zhu)提(ti)升了打(da)印(yin)流程的自動(dong)化程度(du)與(yu)批次穩定性(xing)。
在(zai)材料(liao)適應性(xing)方(fang)面(mian),S240A能夠支持(chi)打(da)印(yin)多種高性(xing)能材料,包(bao)括高粘度(du)陶(tao)瓷(ci)漿料、耐(nai)高(gao)溫工程樹(shu)脂、韌性(xing)光(guang)敏樹脂等多種功(gong)能(neng)性(xing)復合材料,可直(zhi)接(jie)壹(yi)體成型(xing)生產(chan)終端(duan)零(ling)部(bu)件(jian),滿(man)足(zu)工業領(ling)域對產(chan)品(pin)耐(nai)用(yong)性(xing)與功(gong)能(neng)性(xing)的嚴(yan)苛(ke)需(xu)求。

除(chu)設備外,摩(mo)方(fang)精(jing)密還將呈現(xian)多個關(guan)鍵領域的創(chuang)新應用(yong)成果(guo)。展(zhan)品(pin)涵(han)蓋(gai)醫療(liao)器(qi)械(xie)、精(jing)密電(dian)子、微(wei)流控(kong)、工(gong)業連(lian)接(jie)器(qi)等(deng)多個前(qian)沿(yan)方(fang)向(xiang),具體包(bao)括精(jing)密陶(tao)瓷(ci)樣(yang)件、具有(you)金(jin)屬(shu)特性(xing)的電(dian)鍍塗層樣(yang)件(jian)、用(yong)於翻模或註(zhu)塑的可溶(rong)性(xing)犧牲(sheng)樹脂(SR)模具,同時(shi)還(hai)將(jiang)展(zhan)示種類豐富(fu)的功(gong)能(neng)性(xing)聚合物部(bu)件(jian)。

在(zai)終端(duan)工業應用(yong)展示區(qu),摩(mo)方(fang)精(jing)密將重點(dian)呈現(xian)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)技術如何(he)為(wei)連(lian)接(jie)器(qi)制(zhi)造商Omnetics和Z-Axis提(ti)供(gong)定制(zhi)化解決(jue)方(fang)案,助(zhu)力其(qi)突(tu)破(po)微(wei)型(xing)連接(jie)器(qi)在(zai)精(jing)度(du)、耐(nai)熱(re)性(xing)與復雜(za)結(jie)構(gou)上的制造(zao)瓶頸。Z-Axis公司(si)利用(yong)摩(mo)方(fang)精(jing)密的微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)技術,成功(gong)制(zhi)造(zao)出(chu)能(neng)夠承(cheng)受(shou)高(gao)溫焊接(jie)工(gong)藝(yi)的連接(jie)器(qi)。通(tong)過采(cai)用(yong)特定(ding)的高性(xing)能材料,其(qi)打(da)印(yin)的連接(jie)器(qi)可在(zai)高達300°C的環境(jing)中保持(chi)穩定,並(bing)能承(cheng)受(shou)峰(feng)值(zhi)溫度(du)達237°C、時(shi)長(chang)約(yue)7.5分(fen)鐘的回流焊(han)工藝(yi),從(cong)而(er)兼容標(biao)準(zhun)的電(dian)子系統制(zhi)造流程。

同時(shi),現(xian)場展出(chu)的Omnetics雙葉(ye)型(xing)與圓形連接(jie)器(qi),正(zheng)是由摩(mo)方(fang)精(jing)密microArch® D1025(精(jing)度(du):10&25μm)雙精(jing)度(du)設(she)備制造。該產(chan)品(pin)具備0.64毫米的中心線間(jian)距(ju),並(bing)滿(man)足(zu)嚴(yan)格(ge)的抗沖擊(ji)和抗振(zhen)動(dong)標(biao)準(zhun)(MIL-DTL-32139),是(shi)摩(mo)方(fang)技術實(shi)現(xian)微(wei)型(xing)化、精(jing)密化制造(zao)的典型(xing)案例。


2025年(nian),摩(mo)方(fang)精(jing)密逐步(bu)擴(kuo)充(chong)產(chan)品(pin)線,並(bing)在(zai)設備端(duan)進行戰(zhan)略性(xing)升級,目前已覆(fu)蓋從(cong)桌面(mian)級到工作(zuo)站級(ji)的高精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)系統解(jie)決(jue)方(fang)案,以滿(man)足(zu)全(quan)球市場日(ri)益多元(yuan)化(hua)的精(jing)密制造需(xu)求。
其中,針對大型(xing)實(shi)驗室及復雜(za)極(ji)限(xian)結(jie)構(gou)加(jia)工,摩(mo)方(fang)精(jing)密推(tui)出(chu)復合精(jing)度(du)系列設(she)備D0210與D1025。為(wei)推(tui)動(dong)技術普惠化(hua)應用(yong),本(ben)年度(du)推(tui)出(chu)了高(gao)性(xing)價比桌面(mian)高精(jing)度(du)微(wei)納(na)3D打(da)印(yin)系統:microArch® S150(精(jing)度(du):25μm)與(yu)microCube T10(精(jing)度(du):10.8μm)。

同時(shi),為(wei)發展(zhan)不(bu)同領(ling)域的高精(jing)密制造,摩(mo)方(fang)精(jing)密聯合長沙(sha)素(su)靈智(zhi)造(zao)科技有(you)限(xian)公(gong)司(si)、深圳(zhen)質(zhi)多三維科技有(you)限(xian)公(gong)司(si)分(fen)別(bie)推(tui)出(chu)微(wei)納(na)生(sheng)物3D打(da)印(yin)系統nanoArch® S140 BIO(精(jing)度(du):10μm),多材料(liao)4D打(da)印(yin)設(she)備microCube M150(精(jing)度(du):25μm),將(jiang)持續在(zai)生物醫療(liao)、智能(neng)材料(liao)、4D打(da)印(yin)等(deng)前(qian)沿(yan)領(ling)域發力(li)。
摩(mo)方(fang)精(jing)密誠邀(yao)各(ge)位業界(jie)同仁(ren)與(yu)專家學者(zhe)蒞臨Formnext 2025現場(展位信息(xi):德國(guo)法蘭克(ke)福(fu)國(guo)際(ji)展(zhan)覽中心11.1號館(guan)B46展(zhan)位),親身(shen)感受(shou)中國精(jing)密制造的技術高度(du)與(yu)深度(du),並(bing)期待與(yu)您進行交流與(yu)合作。